光刻机制造：
- ASML（荷兰）
- Nikon（日本）
- Canon（日本）
- Ultratech（美国）
光子计算芯片制造：
- Intel（英特尔，美国）
- IBM（美国）
- Hewlett Packard Enterprise（惠普企业，美国）
- Hitachi（日本）
- NEC（日本）
上市公司有智光电气、飞凯材料、南大光电和蓝英装备。光刻机，英文名Mask Aligner，又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，是制造芯片的核心装备，主要厂商有ASML、尼康、佳能、欧泰克、上海微电子装备、SUSS、ABM Inc。
以下是目前在光刻机制造和光子计算芯片制造领域上市的一些公司：
光刻机制造：
1. ASML Holding NV (阿斯麦)
2. Nikon Corporation (尼康)
3. Canon Inc. (佳能)
4. Ultratech Inc. (优科)
光子计算芯片制造：
1. Intel Corporation (英特尔)
2. IBM Corporation (IBM)
3. Hewlett Packard Enterprise Development LP (惠普企业)
4. Ciena Corporation (赛纳通信)
需要注意的是，可能还有其他上市公司也在这些领域开展业务，这里只列举了一些较为知名的公司。